1. Sistem penapisan karbon diaktifkan/media pelbagai:
Digunakan dalam proses pengeluaran yang mana
Penapis media pelbagai biasanya digunakan sebagai peringkat awal rawatan air, yang berkesan membuang kekotoran seperti pepejal terampai, koloid, dan zarah dalam air melalui gabungan media yang berbeza, menyediakan sumber air yang agak bersih untuk proses rawatan berikutnya. Langkah ini amat penting untuk melindungi peralatan pemprosesan berikutnya dan meningkatkan kecekapan pemprosesan keseluruhan.

Penapis karbon diaktifkan terutamanya digunakan untuk membuang kekotoran seperti bahan organik, bau, dan pigmen daripada air. Karbon diaktifkan mempunyai kapasiti penyerapan yang kuat, yang boleh menyerap dan membuang pencemar ini dalam air, dengan itu selanjutnya meningkatkan ketulenan kualiti air. Langkah ini penting untuk memastikan kualiti dan kestabilan air ultra tulen.

Dengan menggabungkan penapis media pelbagai dan penapis karbon diaktifkan, kebanyakan kekotoran dalam air boleh dikeluarkan dengan berkesan, menyediakan asas kualiti air yang baik untuk rawatan lanjutan berikutnya seperti osmosis songsang dan pertukaran ion. Ini membantu memastikan kualiti dan kestabilan air ultra tulen yang diperlukan dalam proses pengeluaran industri semikonduktor elektronik, dengan itu meningkatkan prestasi dan kebolehpercayaan produk.

Prinsip Teknikal
Prinsip teknikal penapis media pelbagai adalah terutamanya untuk menggunakan satu atau lebih media penapisan untuk membuang kekotoran terampai dalam air melalui penapisan mendalam. Apabila air mentah melalui bahan penapis dari atas ke bawah, zarah yang lebih besar dikeluarkan pada lapisan atas, manakala zarah yang lebih kecil dikeluarkan lebih dalam di dalam media penapis. Ini terutamanya bergantung kepada kesan penyerapan dan penyekatan mekanikal lapisan bahan penapis, serta kekompakan susunan zarah pasir, yang memberi zarah air lebih banyak peluang untuk bertembung dengan zarah pasir dan disekat. Selepas rawatan sedemikian, pepejal terampai dalam efluen boleh dikawal pada tahap yang lebih rendah untuk memastikan kejelasan kualiti air.
Prinsip teknikal penapis karbon diaktifkan adalah terutamanya berdasarkan kesan penyerapan karbon diaktifkan. Karbon diaktifkan mempunyai luas permukaan yang besar dan struktur liang yang kompleks, yang memberikannya kapasiti penyerapan yang kuat. Apabila air melalui penapis karbon diaktifkan, pencemar seperti bahan organik, bau, dan pigmen dalam air akan diserap pada permukaan karbon diaktifkan, dengan itu dikeluarkan dengan berkesan. Di samping itu, karbon diaktifkan juga boleh membuang klorin sisa daripada air, memastikan operasi normal peralatan rawatan berikutnya.

Apakah kesan yang boleh kita capai
Pertama, sebagai peralatan pra-rawatan, reka bentuk penapis media pelbagai dengan gabungan pelbagai media membolehkannya untuk berkesan membuang kekotoran besar seperti pepejal terampai dan bahan zarahan daripada air. Ini penting untuk melindungi peralatan dan proses rawatan air berikutnya, memastikan operasi stabil keseluruhan sistem rawatan air. Melalui langkah ini, sumber air yang telah ditulenkan awal boleh disediakan untuk industri semikonduktor elektronik, mengurangkan potensi impak kekotoran terhadap proses pengeluaran.
Kedua, penapis karbon diaktifkan menggunakan kapasiti penyerapannya yang kuat untuk selanjutnya membuang kekotoran surih seperti bahan organik, bau, dan pigmen daripada air. Jika kekotoran ini tidak dikeluarkan, ia mungkin mempunyai kesan buruk terhadap kualiti dan prestasi produk semikonduktor elektronik. Penggunaan penapis karbon diaktifkan boleh meningkatkan ketulenan sumber air dengan ketara dan memenuhi keperluan ketat industri elektronik dan semikonduktor untuk kualiti air yang tinggi.

2. Sistem ultrapenapisan:
Digunakan dalam proses pengeluaran yang mana
Pertama, dalam proses pembersihan, membran ultrapenapisan boleh berkesan membuang zarah dan ion daripada air, sebagai proses pra-rawatan untuk sistem air ultra tulen berkualiti tinggi. Air ultra tulen ini digunakan untuk membersihkan peranti dan peralatan semikonduktor untuk memastikan kebersihan permukaan produk dan mengelakkan impak pencemar terhadap prestasi dan kebolehpercayaan produk.

Kedua, teknologi ultrapenapisan juga biasa digunakan dalam penyediaan cecair proses. Dalam proses pembuatan semikonduktor, pelbagai cecair proses seperti asid, bes, pelarut organik, dan lain-lain perlu digunakan. Membran ultrapenapisan boleh menapis dan menulenkan cecair ini, membuang kekotoran dan zarah, dan memastikan ketulenan dan kualiti cecair memenuhi keperluan pengeluaran.

Di samping itu, teknologi ultrapenapisan juga memainkan peranan penting dalam pengedaran air penyejuk peralatan. Peralatan pembuatan semikonduktor menjana sejumlah besar haba semasa operasi dan memerlukan air penyejuk untuk pembuangan haba. Membran ultrapenapisan boleh membuang zarah dan ion daripada air penyejuk, mencegah kekotoran daripada menyebabkan kerosakan kepada peralatan, dan memastikan operasi normal peralatan dan kestabilan produk.

Prinsip Teknikal
Prinsip teknikal ultrapenapisan adalah terutamanya berdasarkan proses pemisahan membran yang didorong oleh tekanan. Inti terletak pada penggunaan membran separa telap dengan saiz liang tertentu, iaitu membran ultrapenapisan, untuk menyekat koloid, zarah, dan bahan dengan berat molekul yang agak tinggi dalam air, manakala air dan zarah zat terlarut kecil boleh menembusi membran.

Saiz liang membran ultrapenapisan biasanya antara 20 dan 1000A °, dengan julat penapisan 0.002 μm hingga 0.2 μm, yang boleh berkesan menyekat zarah dengan diameter lebih besar daripada 0.002 μm, seperti protein, pektin, lemak, dan mikroorganisma. Membran ultrapenapisan dengan bahan dan struktur yang berbeza mempunyai kesan pemisahan dan julat aplikasi yang berbeza, jadi perlu memilih membran ultrapenapisan yang sesuai mengikut keperluan aplikasi tertentu. Sementara itu, keadaan operasi seperti tekanan yang digunakan, kadar aliran, dan suhu juga boleh memberi impak kepada kecekapan penapisan ultrapenapisan, dan kawalan pengoptimuman diperlukan.

Apakah kesan yang boleh kita capai
Pertama, sistem ultrapenapisan boleh menyediakan air proses yang sangat tulen. Dalam proses pembuatan semikonduktor elektronik, terdapat keperluan yang tinggi untuk kualiti air, dan sebarang kekotoran kecil mungkin mempunyai impak yang serius terhadap kualiti dan prestasi produk. Sistem ultrapenapisan, melalui keupayaan penapisan yang cekap, boleh berkesan membuang zarah, koloid, bakteria, dan kekotoran lain daripada air, memastikan ketulenan air proses dan memenuhi keperluan piawaian tinggi untuk kualiti air dalam proses pembuatan semikonduktor elektronik.

Kedua, sistem ultrapenapisan boleh melindungi peralatan pengeluaran. Disebabkan keupayaan sistem ultrapenapisan untuk menyediakan air proses yang tulen, ia membantu mengurangkan kakisan dan pengarakan dalam peralatan pengeluaran yang disebabkan oleh isu kualiti air, dengan itu memanjangkan jangka hayat peralatan dan mengurangkan kos penyelenggaraan.

Di samping itu, sistem ultrapenapisan juga boleh membantu meningkatkan kecekapan pengeluaran. Dengan memastikan kualiti dan kestabilan air proses, sistem ultrapenapisan boleh mengurangkan gangguan pengeluaran dan turun naik kualiti produk yang disebabkan oleh isu kualiti air, dengan itu memastikan kesinambungan dan kestabilan proses pengeluaran dan meningkatkan kecekapan pengeluaran.
Akhir sekali, sistem ultrapenapisan juga menyumbang kepada pencapaian perlindungan alam sekitar dan pembangunan mampan. Dengan berkesan membuang pencemar daripada air, sistem ultrapenapisan boleh mengurangkan kesukaran dan kos rawatan air sisa, dan meminimumkan impaknya terhadap alam sekitar. Pada masa yang sama, penggunaan sistem ultrapenapisan juga membantu mempromosikan transformasi industri semikonduktor elektronik ke arah kaedah pengeluaran yang lebih mesra alam dan mampan.

3. Sistem membran osmosis songsang:
Digunakan dalam proses pengeluaran yang mana
Membran osmosis songsang terutamanya digunakan dalam industri semikonduktor untuk langkah-langkah proses penyediaan air ultra tulen. Dalam proses pembuatan semikonduktor elektronik, air ultra tulen digunakan secara meluas untuk membersihkan komponen utama seperti wafer silikon dan cip, berkesan membuang zarah permukaan dan bahan organik, dan mengurangkan kadar kecacatan produk. Membran osmosis songsang boleh menyediakan air deionisasi tegangan rendah dan stabil, memenuhi keperluan kualiti air yang tinggi dalam industri semikonduktor.

Di samping itu, teknologi membran osmosis songsang juga boleh menyediakan air pembersihan berkualiti tinggi, memastikan kebolehpercayaan dan kestabilan komponen. Dengan menggunakan ciri-ciri membran osmosis songsang, kawalan tepat ke atas kualiti air boleh dicapai, memenuhi keperluan ketat untuk air ultra tulen dalam proses pembuatan semikonduktor elektronik.

Prinsip Teknikal
Membran osmosis songsang biasanya merupakan membran separa telap sintetik buatan dengan saiz liang yang sangat kecil, yang boleh berkesan menyekat kekotoran seperti garam larut, bahan organik, dan ion logam berat dalam air, sambil membenarkan molekul air untuk melalui. Jika tekanan yang lebih besar daripada tekanan osmosis dikenakan pada satu sisi larutan pekat, arah aliran pelarut akan bertentangan dengan arah osmosis asal, mula mengalir dari sisi larutan pekat ke sisi larutan cair. Proses ini dipanggil osmosis songsang. Pada ketika ini, pelarut melalui membran osmosis songsang di bawah tekanan, manakala zat terlarut disekat oleh membran, mencapai tujuan pemisahan dan penulenan.

Apakah kesan yang boleh kita capai
Pertama sekali, membran osmosis songsang dapat menyingkirkan kekotoran seperti bakteria, bahan organik, dan unsur logam daripada air dengan cekap, memastikan kualiti dan kestabilan air ultra tulen. Air dengan ketulenan tinggi ini amat diperlukan dalam proses pembuatan semikonduktor elektronik, digunakan untuk membersihkan komponen utama seperti wafer silikon dan cip, menyingkirkan zarah permukaan dan bahan organik dengan berkesan, mengurangkan kadar kecacatan produk, dan dengan itu meningkatkan kualiti dan prestasi produk.

Kedua, penggunaan teknologi membran osmosis songsang telah memperlahankan perubahan dalam kualiti air pengeluaran yang disebabkan oleh turun naik dalam kualiti air sumber, dengan itu memudahkan kestabilan kualiti air dalam pengeluaran. Ini memberi kesan positif terhadap kestabilan kualiti produk air ultra tulen dan membantu memastikan pengeluaran produk semikonduktor yang berkelayakan.

Sebagai rumusan, penggunaan membran osmosis songsang dalam industri semikonduktor elektronik dapat mencapai penyediaan air ultra tulen yang cekap, memastikan kestabilan dan kebolehpercayaan kualiti produk, dan juga membantu mengurangkan kos pengeluaran dan pencemaran alam sekitar.

4. Sistem EDI:
Digunakan dalam proses pengeluaran yang mana
Sistem EDI, juga dikenali sebagai sistem elektrodeionisasi, mempunyai pelbagai aplikasi dalam industri semikonduktor. Ia terutamanya digunakan dalam langkah-langkah proses penyediaan air ultra tulen.

Dalam proses pembuatan semikonduktor, air ultra tulen digunakan dalam pelbagai langkah proses utama, seperti membersihkan komponen utama seperti wafer silikon dan cip, serta berfungsi sebagai asas untuk menyediakan cecair proses lain. Sistem EDI dapat menyingkirkan ion dan kekotoran lain daripada air dengan berkesan melalui teknologi membran pertukaran ion dan teknologi penghijrahan elektroion, dengan itu menyediakan air ultra tulen dengan ketulenan tinggi.

Secara khususnya, sistem EDI dapat menyingkirkan ion daripada air, seperti ion logam seperti natrium, kalsium, magnesium, serta anion seperti ion klorida dan sulfat, menghasilkan kekonduksian air yang sangat rendah dan memenuhi keperluan tinggi untuk kualiti air dalam proses pembuatan semikonduktor. Sementara itu, disebabkan keupayaan penyingkiran ionnya yang cekap, sistem EDI juga dapat mengurangkan kekerapan penjanaan semula dan penggunaan bahan kimia yang diperlukan dalam proses pertukaran ion tradisional, mengurangkan kos operasi dan impak alam sekitar.

Prinsip Teknikal
Prinsip teknikal sistem EDI adalah berdasarkan terutamanya kepada teknologi membran pertukaran ion dan teknologi penghijrahan elektroion.

Di bawah tindakan medan elektrik arus terus, ion dielektrik dalam bahagian sistem EDI mengalami pergerakan sehala. Membran pertukaran ion mempunyai kebolehtelapan terpilih kepada ion, membenarkan ion tertentu untuk melalui manakala menghalang yang lain daripada melalui, dengan itu mencapai penulenan kualiti air. Dalam proses ini, resin pertukaran ion dijana semula secara berterusan oleh elektrik, jadi tidak perlu menggunakan asid dan alkali untuk penjanaan semula.

Secara khususnya, modul EDI menyisipkan resin pertukaran ion di antara membran pertukaran anion/kation untuk membentuk unit EDI, yang dipisahkan oleh grid untuk membentuk ruang air pekat dan ruang air segar. Selepas memasang elektrod negatif/positif pada kedua-dua hujung kumpulan unit, arus terus memacu ion negatif dan positif dalam ruang air segar untuk melalui membran pertukaran ion yang sepadan dan memasuki ruang air pekat, dengan itu menyingkirkan ion ini dalam ruang air segar. Air dalam ruang air pekat membawa ion keluar dari sistem, membentuk air pekat.

Apakah kesan yang boleh kita capai
Sistem EDI dapat menyediakan air ultra tulen dengan cekap. Dalam proses pembuatan semikonduktor, air ultra tulen adalah faktor pengeluaran utama yang digunakan untuk membersihkan komponen teras seperti wafer silikon dan cip, serta berfungsi sebagai asas untuk menyediakan cecair proses lain. Sistem EDI, melalui keupayaan penyingkiran ionnya yang cekap, dapat menyingkirkan kekotoran seperti ion dan bahan organik daripada air, memastikan kualiti dan kestabilan air ultra tulen dan memenuhi keperluan tinggi pembuatan semikonduktor untuk kualiti air.

Selain itu, sistem EDI mempunyai kelebihan operasi yang mudah, tidak memerlukan penjanaan semula, dan kualiti air efluen yang stabil. Semasa memenuhi keperluan aliran masuk, ia dapat memastikan bahawa rintangan elektrik pengeluaran air berterusan adalah ≥ 15M Ω.

5. Sistem katil campuran pengilat:
Digunakan dalam proses pengeluaran yang mana
Katil campuran pengilat terutamanya digunakan dalam industri semikonduktor untuk proses penyediaan air ultra tulen.

Pencucian cip: Semasa proses pembuatan cip, pelbagai kekotoran dihasilkan melalui proses seperti pemendakan kimia/fizikal, kakisan, dan pemanggangan. Untuk menyingkirkan kekotoran ini dan memastikan prestasi cip, adalah perlu untuk menggunakan air ultra tulen untuk pencucian.

Penyediaan bahan semikonduktor: Air ultra tulen dapat menyingkirkan kekotoran daripada permukaan bahan semikonduktor, memastikan keperluan ketulenan bahan semikonduktor, dengan itu meningkatkan prestasi dan kebolehpercayaan cip semikonduktor dengan berkesan.

Dalam langkah-langkah proses ini, air ultra tulen digunakan untuk membersihkan peranti dan peralatan semikonduktor, memastikan kebersihan permukaan produk dan mengelakkan impak pencemar terhadap prestasi dan kebolehpercayaan produk. Sistem katil campuran pengilat dapat menyingkirkan ion dan bahan organik daripada air dengan berkesan, memastikan kualiti air memenuhi standard tinggi dalam industri semikonduktor.

Prinsip Teknikal
Prinsip teknikal katil campuran pengilat adalah berdasarkan terutamanya kepada prinsip pertukaran ion. Resin ini ialah sebatian polimer yang terdiri daripada kumpulan pertukaran ion khas yang dapat menunjukkan fungsi pertukaran ion dalam larutan akueus.

Dalam aplikasi industri semikonduktor, katil campuran pengilat terutamanya digunakan untuk penyediaan air ultra tulen. Apabila air mentah yang mengandungi ion kekotoran melalui resin, kumpulan pertukaran ion dalam resin akan bertukar dengan ion kekotoran ini, menyerapnya pada resin, dan melepaskan ion yang tidak berbahaya kepada proses. Dengan cara ini, melalui interaksi pertukaran ion resin, ion kekotoran dalam air mentah disingkirkan dengan berkesan, menghasilkan air dengan ketulenan tinggi.

Apakah kesan yang boleh kita capai
Pertama sekali, ia memastikan kualiti air ultra tulen. Air ultra tulen adalah penting dalam proses pembuatan semikonduktor elektronik. Katil campuran pengilat dapat menyingkirkan ion, bahan organik, dan kekotoran lain daripada air dengan cekap, memastikan kualiti dan kestabilan air ultra tulen, dan memenuhi standard tinggi untuk kualiti air dalam pembuatan semikonduktor elektronik.

Pengilat katil campuran juga membantu meningkatkan kecekapan pengeluaran. Disebabkan kapasiti pertukaran ionnya yang cekap dan prestasi yang stabil, ia dapat mengurangkan gangguan pengeluaran dan penyelenggaraan peralatan yang disebabkan oleh masalah kualiti air, memastikan kesinambungan dan kestabilan proses pengeluaran.